增訂光電產業及科學園區放流水標準、放流水戴奧辛標準、修訂連續處罰方式
在民間團體長期大聲疾呼下，環保署最近制定與修訂多項工業放流水質管制標準，包括光電產業及科學園區放流水標準、放流水戴奧辛標準；並修改違法處罰方式，將原本的「治標」改善認定標準，修改為「治本」的標準，換句話說，過去工廠遭環保署稽查發現超標排放，只要設法讓排放水達標就算改善完成，新制實施後，必須追究超標的原因，把超標原因消除後，排放水也達標，才算改善完成。
光電產業及科學園區放流水標準
環保署12日發布光電材料及元件製造業放流水標準、科學工業園區污水下水道系統放流水標準，除原有管制項目外，主要是將氨氮分二階段列入管制，生物急毒性移入水污染防治措施及檢測申報管理辦法。
依環保署調查，光電業及科學園區之氨氮排放量占產業氨氮總排放比率之34%，因此決定納入管制。
管制項目另包含現行放流水標準所列具科技產業特性之項目，總計光電業及科學園區分別管制33項及34項。環保署將依照既有／新設之別，規範不同限值及緩衝期因應。其中新設業者之限值為20 mg/L，自發布日施行；既設業者第一階段之限值為75 mg/L，自2013年7月1日施行，提出削減計畫並經主管機關核定者可延後至2015年1月1日施行；第二階段因須配合改善廢（污）水處理設施，給予較長緩衝期，但最遲至2017年1月1日應符合30 mg/L。
環保署估計，新標準施行後，預估每日可削減16,000公斤之氨氮排入河川。
增訂放流水戴奧辛標準
環保署同樣在12日針對具戴奧辛污染產生風險的紙漿業、氯乙烯製造業、具廢棄物焚化設施且採溼式或半乾式洗滌處理之事業等，增訂戴奧辛管制項目。新設業者之限值為5 pg I-TEQ/L，既設業者之限值為10 pg I-TEQ/L，自發布日起施行。
違反水污染防治 按日連續處法準則調整
環保署8日修正發布「違反水污染防治法按日連續處罰執行準則」、「違反水污染防治法罰鍰額度裁罰準則」及「違反水污染防治法通知限期改善或補正裁量基準」。
依照新訂規範，若業者違反水污染防治法相關規定，主管機關需探究違規原因，作為改善期限核定的依據、改善結果認定，以及罰鍰額度的裁量。違規行為若未於改善期限屆滿前完成改善，將予按日連續處罰；同時違規行為若有不法所得，罰鍰額度另加計不法利得。
環保署表示，舊的「違反水污染防治法按日連續處罰執行準則」，改善完成的認定僅以放流水質合格報告當作依據，無法促使業者確實改善。
因此，才修正「違反水污染防治法按日連續處罰執行準則」，對於業者放流水超標案件，將依水質超標的原因，據以要求改善；而業者檢送的完成改善證明文件，及主管機關於改善期限屆滿後的查驗，也改成以違規原因的移除成果作為證明及認定，而非以往僅以水質檢測結果作依據。
如果業者沒在於改善期限屆滿前完成改善，將自改善期限屆滿翌日起至違規行為改善完成之日止，依累計之違規日數乘以每日罰鍰額度計算總罰鍰。
另外，修正「違反水污染防治法罰鍰額度裁罰準則」方面，環保署也增訂得加計不法利得，不受法定罰鍰上限的限制。對於應立即禁止的行為，也不再提供改善期限，避免法律假期。
